洗剤組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993353801
Publication number (International publication number)：1995197086
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】洗浄性を損なうことなく、洗浄後のすすぎ洗いにおける泡立ちを継続的に抑制することができる洗剤組成物を提供する。【構成】 (A)少なくとも1種の界面活性剤2〜90重量%、(B)少なくとも1種の洗浄力ビルダー1〜98重量%および(C)(a)一般式:【化1】で表される有機ケイ素重合体および一般式:【化2】で表されるジオルガノポリシロキサンからなる群から選択される基油(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R3はアルキレン基であり、R4は一価炭化水素基であり、R5は炭素数2〜18の一価炭化水素基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)と(b)比表面積が少なくとも50m2/gであるシリカ微粉末{(b)成分の配合量は、(a)成分100重量部に対して、1〜50重量部の範囲である。}からなる抑泡剤0.001〜20重量%からなる洗剤組成物。

Claim (excerpt)：

(A)少なくとも1種の界面活性剤 2〜90重量%、(B)少なくとも1種の洗浄力ビルダー 1〜98重量%および(C)(a)一般式:【化1】(式中、R1はアルケニル基を除く一価炭化水素基であり、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R3はアルキレン基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)で表される有機ケイ素重合体および一般式:【化2】(式中、R2は一価炭化水素基、水素原子または水酸基であり、R4は一価炭化水素基であり、R5は炭素数2〜18の一価炭化水素基であり、mは2以上の整数であり、nは0以上の整数であり、かつm≧nである。)で表されるジオルガノポリシロキサンからなる群から選択される基油と(b)比表面積が少なくとも50m2/gであるシリカ微粉末{(b)成分の配合量は、(a)成分100重量部に対して、1〜50重量部の範囲である。}からなる抑泡剤 0.001〜20重量%からなる洗剤組成物。

IPC (3)：

C11D 3/37 , B01D 19/04 , C11D 3/38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

特表平6-507188
特開昭60-106508
安定な制泡液体洗剤組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-501554 Applicant：ザプロクターエンドギャンブルカンパニー

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