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J-GLOBAL ID：200903079187907277

基板処理装置および基板処理方法

Inventor： 奥野 英治 ,  木瀬 一夫
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997063110
Publication number (International publication number)：1998256208
Application date： Mar. 17, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 処理時間を短縮することができる縦型基板処理装置を提供する。【解決手段】 鉛直姿勢の基板9(9b)を上方に搬送しながら処理部2で所定の処理を施す基板処理装置において、基板9は処理部2の下方の搬送開始位置に鉛直姿勢で置かれ、第1保持部31により保持されて上方へ運ばれる。基板9が処理部2内を通過すると、その基板9の上部を第2保持部32が保持して上方へ運ぶ。第2保持部32が基板を保持すると、第1保持部31による基板の保持は終わり、第1保持部31は直ちに下方の搬送開始位置まで戻り、次の基板の受け入れが可能となる。

Claim (excerpt)：

基板を所定方向に搬送して処理部を通過させ、処理部によって所定の処理を施す基板処理装置において、基板が通過する通過路を有し、通過路を通過する基板に対して所定の処理を施す処理部と、該処理部外の基板受取位置にて基板を受け取って支持し、当該基板を処理部へ搬入する第1搬送手段と、該第1搬送手段が支持して処理部へ搬入した基板を受け取って、当該基板を処理部外へ搬出する第2搬送手段と、前記第2搬送手段による前記第1搬送手段からの基板の受け取りに応じて前記第1搬送手段を前記基板受取位置へ移動させる駆動手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  B65G 49/07 ,  H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/304 341 C ,  B65G 49/07 C ,  H01L 21/68 A