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J-GLOBAL ID：200903079195187755

ガス調理装置

Inventor： 小寺 洋 ,  松本 隆 ,  内田 譲 ,  榎本 有 ,  前田 和茂 ,  毛笠 明志
Applicant, Patent owner： 株式会社ハーマン ,  大阪瓦斯株式会社
Agent (1)： 石田 長七 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993150675
Publication number (International publication number)：1995012357
Application date： Jun. 22, 1993
Publication date： Jan. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高温調理で被調理物を香ばしく、中身を柔らかく、まろやかに調理する。調理庫内に付着した油脂分や臭いを高温調理時に蒸発させてセルフクリーニングする。油分や臭いや煙を除去する。被調理物の酸化を低減して自己発熱を抑制して焦げ過ぎを防止する。【構成】調理庫1の庫内温度を300°C以上にして調理することができるための加熱手段2を調理庫1外に設ける。調理中における調理庫1内の酸素濃度を8%以下に設定して低酸素濃度下で高温調理をする。加熱手段2から調理庫1内を経て再び加熱手段に戻る熱気循環路29を設け、熱気を循環させる際に調理庫内に付着した油脂分や臭いを加熱手段2により焼き切る。調理庫1内にスチーム発生用の水入れ30を設けて300°C以上の熱で水入れ30内の水を沸騰してスチームを発生させる。

Claim (excerpt)：

調理庫内にスチーム発生用の水入れを設け、調理庫の庫内温度を300°C以上にして調理することができるための加熱手段を調理庫外に設けると共に調理中における調理庫内の酸素濃度を8%以下に設定し、上記加熱手段から調理庫内を経て再び加熱手段に戻る熱気循環路を設け、加熱手段で発生した熱風が上記熱気循環路を循環できるように構成して成ることを特徴とするガス調理装置。