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J-GLOBAL ID：200903079234533380

光ディスク基板の複製方法

Inventor： 安齋 由美子 ,  宮村 芳徳 ,  安藤 圭吉 ,  堀籠 信吉
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991344353
Publication number (International publication number)：1993182251
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】光ディスク用基板の作製において量産に適した手段を提供すること。【構成】光ディスク用レプリカ基板を低酸素濃度雰囲気中で作製する。【効果】光硬化樹脂を十分に硬化させ、作業上の安全性が高く、かつ、量産効率が向上する。

Claim (excerpt)：

表面に光ヘッド案内溝およびアドレスなどを表わすピットやセクタマークあるいは記録情報などの凹凸パターンをもつスタンパ表面あるいは透明な基板の表面に液状の光硬化樹脂を滴下する工程、上記光硬化樹脂を介して上記スタンパの表面に透明な基板を密着する工程、上記透明な基板を介して上記光硬化樹脂に紫外線を照射する工程、上記スタンパと上記光硬化樹脂の界面から剥離する工程、上記剥離した光硬化樹脂を有する光ディスク基板に再び紫外線を照射する工程、からなる全工程あるいはその一部を不活性気体の雰囲気中で連続的あるいは部分的に処理することを特徴とする光ディスク基板の複製方法。