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J-GLOBAL ID：200903079264018219

スルホン化ポリアリーレンスルフィド化合物の製造方法

Inventor： 土田 英俊 ,  西出 宏之 ,  山元 公寿 ,  庄司 英一 ,  宮武 健治
Applicant, Patent owner： 土田 英俊
Agent (1)： 本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994097439
Publication number (International publication number)：1995304872
Application date： May. 11, 1994
Publication date： Nov. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 スルホン化ポリアリーレンスルフィド化合物の簡便な製造方法を提供する。【構成】 一般式(1)(ただし、式中Rはアルキル基またはアリール基を表し、Arはフェニル基、ジフェニルスルフィド基またはジフェニルエーテル基を表す)で示される芳香族スルホキシド化合物を強酸の存在下でスルホン化および重合させて、一般式(2)(式中、RおよびArは前記定義に同じであり、Xはアルカリ金属または水素原子を表し、mは0.1≦m<4で表されるスルホン基の平均付加モル数であり、nは10〜 10,000の重合度を表す)で示されるスルホン化ポリアリーレンスルホニウム化合物を製造した後、置換基Rを脱離させることを特徴とする、一般式(3)(式中、Ar、X、mおよびnは前記定義に同じ)で示されるスルホン化ポリアリーレンスルフィド化合物の製造方法。【化1】

Claim (excerpt)：

一般式(1)【化1】(ただし、式中Rはアルキル基またはアリール基を表し、Arはフェニル基、ジフェニルスルフィド基またはジフェニルエーテル基を表す)で示される芳香族スルホキシド化合物を強酸の存在下でスルホン化および重合させて、一般式(2)【化2】(式中、RおよびArは前記定義に同じであり、Xはアルカリ金属または水素原子を表し、mは0.1≦m<4で表されるスルホン基の平均付加モル数であり、nは10〜 10,000の重合度を表す)で示されるスルホン化ポリアリーレンスルホニウム化合物を製造した後、置換基Rを脱離させることを特徴とする、一般式(3)【化3】(式中、Ar、X、mおよびnは前記定義に同じ)で示されるスルホン化ポリアリーレンスルフィド化合物の製造方法。