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J-GLOBAL ID：200903079264655154

X線ミラー及びこれを用いたX線露光装置とデバイス製造方法

Inventor： 林田 雅美 ,  渡辺 豊
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993161791
Publication number (International publication number)：1995020293
Application date： Jun. 30, 1993
Publication date： Jan. 24, 1995
Summary：

【要約】【構成】 本発明の斜入射X線ミラー1は、凸型円筒面をもつ炭化ケイ素基板2の表面に、膜厚10nm〜1μmの炭素層3をCVD法等の蒸着法によってコーティングしたことを特徴とする。【効果】 本発明の炭素層をあらかじめコーティングした斜入射X線ミラーにより、ミラーの表面に付着する汚染炭素層による反射光の強度変化を抑えることができ、X線リソグラフィ装置に使用した場合、X線強度測定、強度補正又はミラーのクリーニング回数を大幅に減らすことができる。

Claim (excerpt)：

X線反射面表面に膜厚10nm〜1μmの炭素層を設けたことを特徴とするX線ミラー。