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J-GLOBAL ID：200903079297492650

パターン形成体の製造法

Inventor： 山本 学 ,  岡部 将人 ,  小林 弘典
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999064282
Publication number (International publication number)：2000255165
Application date： Mar. 11, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】 パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつCAD等のデジタルデータに基づいて直接パターンを形成することが可能であり、さらにパターン形成に際して用いる装置が比較的安価で取り扱いやすい装置であるパターン形成体の製造法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】 本発明は、少なくとも光触媒含有層と、この光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターン形成体用基板の光触媒含有層に対して光触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、前記特性変化層上に光触媒の作用により特性が変化した特性変化部位からなるパターンを形成してパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造法を提供することにより上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

少なくとも光触媒含有層と、この光触媒含有層中の光触媒の作用により特性が変化する特性変化層とを有するパターン形成体用基板の光触媒含有層に対して光触媒反応開始エネルギーを加え、この光触媒反応開始エネルギーが加えられた領域内に反応速度増加エネルギーをパターン状に加えることにより、前記特性変化層上に光触媒の作用により特性が変化した特性変化部位からなるパターンを形成してパターン形成体を得ることを特徴とするパターン形成体の製造法。

IPC (2)：

B41M 5/26 ,  G03F 7/095

FI (2)：

B41M 5/26 S ,  G03F 7/095

F-Term (26)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB01 ,  2H025AB02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB13 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BH03 ,  2H025DA03 ,  2H025DA08 ,  2H025DA40 ,  2H025FA01 ,  2H025FA06 ,  2H025FA10 ,  2H025FA28 ,  2H111HA14 ,  2H111HA18 ,  2H111HA22 ,  2H111HA23 ,  2H111HA32 ,  2H111HA35