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J-GLOBAL ID：200903079309828993

磁性膜形成装置およびインライン成膜装置

Inventor： 大川 宏男 ,  石川 靖 ,  上田 文臣 ,  有松 啓治 ,  萩谷 孝 ,  山口 博右
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 富田 和子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992290516
Publication number (International publication number)：1994136530
Application date： Oct. 28, 1992
Publication date： May. 17, 1994
Summary：

【要約】【目的】装置内の基板に対して、常に一定方向の磁界を印加することの可能なインライン成膜装置を提供する。【構成】真空容器中11aに、基板に成膜するための成膜手段23aと、基板24を搭載した基板パレット21を搬送する搬送手段とを備えたインライン成膜装置において、基板24に磁界6を印加するための磁界発生手段28a、28bを、基板24とともに基板パレット21に搭載し、磁界発生手段28a、28bも基板24とともに搬送される構成としたインライン成膜装置。【効果】本発明のインライン成膜装置を用いて磁性膜を成膜した場合、装置内において、基板に常に一定方向の磁界が印加されるので、磁化の配向性が高い磁性膜を成膜することができる。

Claim (excerpt)：

真空容器と、基板を保持する基板パレットと、前記真空容器内で前記基板パレットを保持する保持手段と、前記基板に成膜するための成膜手段と、前記基板パレットを搬送する搬送手段と、成膜時の前記基板に磁界を印加するための磁界発生手段とを有するインライン成膜装置において、前記磁界発生手段は、前記基板パレットに搭載され、前記磁界発生手段の搭載位置は、前記基板が前記基板パレットに保持される空間に磁界を印加する位置であり、前記磁界発生手段は、前記基板パレットとともに前記搬送手段によって搬送されることを特徴とするインライン成膜装置。

IPC (2)：

C23C 14/35 ,  C23C 14/56