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J-GLOBAL ID：200903079361272880

ブラックパターンの形成方法およびブラックパターンの形成されたカラーフィルタ

Inventor： 羽田 昭夫
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993110378
Publication number (International publication number)：1994324325
Application date： May. 12, 1993
Publication date： Nov. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】カラー液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの、特にカラーフィルタ素子の間に遮光のため形成されるブラックパターンに関し、安価に製造することができ、かつ平面性の高いブラックパターンの形成方法である。【構成】ガラス基板に、ブラック染料に染色される可染性樹脂層を形成し、この層をブラック染料で染色してブラック染料染色樹脂層を形成し、その表面にフォトレジスト層を形成し、そのフォトレジスト層をパターンニングしてパターンニングされたフォトレジスト層を形成するとともに、このパターンニングされたフォトレジスト層をマスクとしてブラック染料染色樹脂層に染色されたブラック染料を脱色することによりパターンニングされたブラック染料染色樹脂層を形成し、前記フォトレジスト層を剥離することにより、パターンニングされたブラック染料染色樹脂層を得ることを特色とするブラックパターンの形成方法。

Claim (excerpt)：

ガラス基板(10)に透明かつ染色可能な可染性樹脂層を形成し、この可染性樹脂層をブラック染料で染色してブラックに染色されたブラック染料染色樹脂層(20)を形成し、その表面にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層(30)を形成し、そのフォトレジスト層(30)にパターン露光、現像することによりパターンニングしてパターンニングされたフォトレジスト層(30P)を形成するとともに、このパターンニングされたフォトレジスト層(30P)をマスクとしてブラック染料染色樹脂層(20)に染色されたブラック染料を脱色することによりパターンニングされたブラック染料染色樹脂層(20P)を形成し、前記パターンニングされたフォトレジスト層(30P)を剥離することを特色とするブラックパターンの形成方法。

IPC (2)：

G02F 1/1335 505 ,  G02B 5/20 101