Pat

J-GLOBAL ID：200903079368156613

レジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物

Inventor： 藤原 匡之 ,  脇阪 幸也 ,  時光 亨 ,  村田 直志 ,  加門 良啓 ,  百瀬 陽
Applicant, Patent owner： 三菱レイヨン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000211381
Publication number (International publication number)：2001081139
Application date： Jul. 12, 2000
Publication date： Mar. 27, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高いドライエッチング耐性を有するDUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィーに好適なレジスト用樹脂および化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)および(2)から選ばれる少なくとも1種の単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。 【化1】(R1,R2は水素原子、アルキル基、あるいは酸脱離性の保護基を示す。) 【化2】(R3は1または2以上の、水素原子、アルキル基、あるいは酸脱離性の保護基を示し、nは0から4の整数を示す。)

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ水溶液に可溶となるレジスト用樹脂であって、式(1)および(2)から選ばれる少なくとも1種の単量体単位が含まれていることを特徴とするレジスト用樹脂。【化1】(R1,R2は水素原子、アルキル基、あるいは酸脱離性の保護基を示す。)【化2】(R3は1または2以上の、水素原子、アルキル基、あるいは酸脱離性の保護基を示し、nは0から4の整数を示す。)

IPC (8)：

C08F220/28 ,  C08F220/12 ,  C08F224/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C08L 37/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

C08F220/28 ,  C08F220/12 ,  C08F224/00 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/04 ,  C08L 37/00 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 屈折率分布型プラスチック光ファイバ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-091869   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 屈折率分布型プラスチック光ファイバ及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-091861   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 透明耐熱性樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185021   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 透明耐熱性樹脂
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-180534   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-255167   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型ホトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-011581   Applicant：東京応化工業株式会社