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J-GLOBAL ID：200903079372373548

パタン形成材料及びそれを用いたパタン形成方法

Inventor： 逆水 登志夫 ,  白石 洋 ,  山口 秀範 ,  加藤 幸治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993280883
Publication number (International publication number)：1995225480
Application date： Nov. 10, 1993
Publication date： Aug. 22, 1995
Summary：

【要約】【目的】 アルカリ現像可能な高感度、高解像度のポジ型パタン形成材料を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂と酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を増加させる反応性を有する高分子溶解阻害剤と活性化学線により酸を生じる化合物と水溶性添加剤から構成される化学増幅系レジストにおいて、水溶性添加剤を高分子化合物の全量100重量部に対して50超〜200重量部配合してレジストを作成し、ポジ型パタン形成を行なう。【効果】 アルカリ水溶液で現像可能で、膜べりの少ない高感度、高解像度のポジ型のパタン形成が可能である。

Claim (excerpt)：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対し溶解性を増加させる反応性を有する高分子溶解阻害剤、(c)水溶性添加剤、を少なくとも含むポジ型化学増幅系レジスト組成物であって、上記成分(c)を(b)の全量100重量部に対して50超〜200重量部配合したことを特徴とするパタン形成材料。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027