Pat

J-GLOBAL ID：200903079386267341

処理システム

Inventor： 千場 教雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997169553
Publication number (International publication number)：1999003852
Application date： Jun. 11, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】 処理システム内の液処理装置と熱処理装置を近接配置可能とすることで,処理システム全体のコンパクト化を図る。【解決手段】 レジスト処理装置COT1、COT2内の雰囲気を外部へ排気するための排気管81を、ポストベーキング装置POBAKEおよびプリベーキング装置PREBAKEなどの熱処理装置側に設けることによって、熱処理装置からレジスト処理装置への熱的影響を遮断する。

Claim (excerpt)：

被処理基板に対して所定の液を供給して当該被処理基板に処理を施す液処理装置と、被処理基板に対して熱処理を施す熱処理装置とを備えた処理システムにおいて、前記液処理装置内の雰囲気の排気ダクトが、当該液処理装置における前記熱処理装置側に配置されたことを特徴とする、処理システム。

FI (2)：

H01L 21/30 566 ,  H01L 21/30 571