Pat
J-GLOBAL ID:200903079394866386

オゾン濃度制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梶山 佶是 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992093902
Publication number (International publication number):1993263256
Application date: Mar. 19, 1992
Publication date: Oct. 12, 1993
Summary:
【要約】【目的】 オゾナイザーの電気的負荷を全く変動させることなく、オゾン濃度をシャープに変化させる。【構成】 オゾナイザーに、SF6 ,CO2 ,N2 ,ArおよびHeからなる群から選択される少なくとも一種類の添加ガス成分を供給する。オゾン濃度を高める場合は、N2 ,ArおよびHeからなる群から選択される少なくとも一種類の添加ガス成分を供給し、一方、オゾン濃度を低める場合は、SF6 およびCO2からなる群から選択される少なくとも一種類の添加ガス成分を供給する。
Claim (excerpt):
常圧CVD装置にオゾンを供給するためのオゾナイザーに、SF6 ,CO2 ,N2 ,ArおよびHeからなる群から選択される少なくとも一種類の添加ガス成分を供給することを特徴とするオゾン濃度制御方法。
IPC (4):
C23C 16/52 ,  C01B 13/11 ,  C23C 16/40 ,  H01L 21/316

Return to Previous Page