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J-GLOBAL ID：200903079399220450

シラノール末端シルセスキオキサンラダーおよびその製造方法

Inventor： 平石 将史 ,  津村 学 ,  岩原 孝尚 ,  広瀬 俊文
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994321195
Publication number (International publication number)：1996157605
Application date： Dec. 01, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】無触媒で硬化が可能な新規構造のシラノール末端シルセスキオキサンラダーオリゴマーおよびゲル化することはなしに効率よく低分子量の該オリゴマーを製造する方法を提供することにある。【構成】?@ 一般式(1)(R1 は1価の炭化水素基で、R2 は芳香族炭化水素基であり、R1 の個数がR1 およびR2 の個数全体の20〜90%であり、l、m、nは0または正の数で、これらの和の平均は2≦l+m+n≦15である。)で示される、数平均分子量500〜2000であるシラノール末端シルセスキオキサンラダーオリゴマー、?A 有機溶媒相と水相からなる2相系にアルカリ金属カルボン酸と、非プロトン性極性有機溶媒を溶存させ、式(2):R1 SiX3 および式(3):R2 SiX3 (R1 、R2 は前記と同義、Xはハロゲン原子である。)で示されるオルガノトリハロシランの混合物を添加して共加水分解・縮合させる。【化1】

Claim (excerpt)：

一般式(1)(R1 は1価の炭化水素基で、R2 は芳香族炭化水素基であり、R1 の個数がR1 およびR2 の個数全体の20〜90%であり、l、m、nは0または正の数で、これらの和の平均は2≦l+m+n≦15である。)で示される、数平均分子量500〜2000であるシラノール末端シルセスキオキサンラダーオリゴマー。【化1】

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-129230
  
• 特開昭50-111198
  
• シルセスキオキサンポリマーの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-361351   Applicant：日本ゼオン株式会社