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J-GLOBAL ID：200903079405889669

有害ガスの浄化方法

Inventor： 秋田 昇 ,  畠山 俊哉 ,  島田 孝 ,  岩田 恵一
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992169104
Publication number (International publication number)：1993237324
Application date： Jun. 26, 1992
Publication date： Sep. 17, 1993
Summary：

【要約】【目的】塩化水素、ジクロロシラン、三塩化燐、三弗化塩素、三塩化硼素、三弗化硼素、六弗化タングステン、四弗化珪素、弗素、弗化水素および臭化水素など有害なハロゲン化物ガスが含まれる半導体製造プロセス排ガスやこれらの原料ガスボンベから漏洩するなどで汚染した空気、窒素、水素などからこれらの有害成分を除去する。【構成】有害成分となるハロゲン化物を含有するガスを、酸化亜鉛、酸化アルミニウムおよびアルカリ化合物を混合してなる浄化剤と接触させる。

Claim (excerpt)：

有害成分となるハロゲン化物ガスを含有するガスを、酸化亜鉛、酸化アルミニウムおよびアルカリ化合物より構成される浄化剤と接触させて、該有害成分を除去することを特徴とする有害ガスの浄化方法。

IPC (5)：

B01D 53/02 ,  B01D 53/34 134 ,  B01D 53/34 ,  B01J 20/08 ,  B01D 53/14