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J-GLOBAL ID：200903079432051588

真空蒸着装置

Inventor： 増田 裕之
Applicant, Patent owner： 東芝硝子株式会社
Agent (1)： 大胡 典夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994122163
Publication number (International publication number)：1995331421
Application date： Jun. 03, 1994
Publication date： Dec. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 単一の蒸発源による蒸着だけではなく、複数の蒸発源による蒸着であっても、個々の蒸着物質に対して最適な蒸発制御を可能とする。【構成】 蒸着源7 による蒸着物質6 の加熱時の蒸発温度を測定する非接触の放射温度計9 の測定温度に基づいて、制御部5 が蒸発源7 の蒸着物質6 を加熱する温度を制御し蒸発量を制御することにより、蒸発物質6 は最適蒸発温度にて加熱・蒸発され、蒸発量を安定化することができるとともに基板2 の蒸着状態の安定化を図ることができる。

Claim (excerpt)：

真空槽内で被蒸着物に蒸着膜を成膜する真空蒸着装置において、上記真空槽内に設置され蒸着物質を可変可能に加熱して蒸発させ上記被蒸着物に蒸着膜を成膜する少なくとも1個の蒸発源と、この蒸発源における上記蒸着物質の蒸発温度を測定する非接触の温度測定手段と、この温度測定手段の測定温度に基づいて上記蒸発源の上記蒸着物質を加熱する温度を制御して蒸発量を制御する制御手段とを具備したことを特徴とする真空蒸着装置。