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J-GLOBAL ID：200903079436878207

低濃度有機溶剤ガスの処理方法及び処理装置

Inventor： 川田 和之
Applicant, Patent owner： 東洋紡績株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996285595
Publication number (International publication number)：1998128047
Application date： Oct. 28, 1996
Publication date： May. 19, 1998
Summary：

【要約】【課題】 触媒装置で処理可能な濃度の上限を越える濃縮ガスの供給を抑制して、触媒温度が限界温度を超えることを防止することのできる低濃度有機溶剤ガス処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】 低濃度の有機溶剤ガスを吸着体2に通気させることにより有機溶剤成分を吸着させ、加熱された再生用気体を吸着体2に供給することにより吸着された有機溶剤成分を脱着し、それにより低濃度有機溶剤ガスを高濃度ガスとして取り出す吸着濃縮装置であって、取り出された濃縮ガスを酸化分解する触媒燃焼装置5と、この触媒燃焼装置5の触媒出口温度を検出する温度検出手段6と、検出された触媒出口温度に基づいて再生用気体の加熱温度を調整する温度制御手段7と、を備えたことを要旨とする。

Claim (excerpt)：

低濃度の有機溶剤ガスを吸着体に通気させることにより有機溶剤成分を吸着させ、加熱された再生用気体を前記吸着体に供給することにより吸着された前記有機溶剤成分を脱着し、それにより低濃度有機溶剤ガスを高濃度ガスとして取り出す吸着濃縮方法であって、前記取り出された濃縮ガスを触媒燃焼装置を用いて酸化分解する際に、触媒の出口温度を検出し、検出した温度値に応じて前記吸着体へ導入する前記再生用気体の温度を調整することを特徴とする低濃度有機溶剤ガスの処理方法。

IPC (6)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/04 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/86 ZAB

FI (5)：

B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/04 G ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 117 G ,  B01D 53/36 ZAB G