Pat
J-GLOBAL ID:200903079474440770
光学式スポット格子アレイ印刷装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 鈴木 康仁
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003542405
Publication number (International publication number):2006502558
Application date: Nov. 07, 2002
Publication date: Jan. 19, 2006
Summary:
レジストが積層された基板を横切って光ビームのスポット格子アレイを走査することにより像が形成される高解像度かつ高データレートのスポット格子アレイ印刷システムが提供される。狭いメインローブを与えるように光ビームをアポダイジングすることにより高解像度が達成される。サイドローブがレジストのスレッシュホールドより高いエネルギーを含まないように確保し、無記憶レジストを使用し、更に、スポット格子アレイパターン及びレジストの記憶なし特性に使用される傾斜及びインターリーブ型走査パターンを使用することにより、基板に対するサイドローブの望ましからぬ記録が防止される。
Claim (excerpt):
無記憶レジストが積層された基板に使用するための印刷装置において、
入力信号に応答して個々に変調された実質的に平行な光ビームのアレイを発生するためのプログラム可能な光放射源と、
上記光ビームを狭めるためのビーム整形装置と、
上記狭められた変調光ビームを受け取るように配置され、上記狭められた変調光ビームを収束するための収束光学系と、
上記基板と、上記収束され狭められた変調光ビームとの間に直線移動、即ち傾斜走査を与える並進移動を導入するための可動ステージと、
を備えた印刷装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, G02B 3/00
, G03F 7/20
FI (5):
H01L21/30 529
, G02B3/00 A
, G03F7/20 501
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 519
F-Term (9):
2H097AA03
, 2H097BB10
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 2H097LA20
, 5F046BA06
, 5F046BA07
, 5F046CB25
, 5F046DA12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-532621
Applicant:ジョンソンケニスシー
-
リソグラフィ露光装置およびリソグラフィ処理
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-503789
Applicant:ドイチェスツェントルムフューアルフトウントラウムファールトエー.ファウ., インスティテュートフューアミークロエレクトローニクシュトゥットガルト(シュティフトゥンクデスオフェントリヘンレヒツ)
Return to Previous Page