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J-GLOBAL ID：200903079475391463

分子素子作製用の位置測定(位置決め)装置

Inventor： 藤井 透 ,  宮原 陽一
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997345612
Publication number (International publication number)：1999173832
Application date： Dec. 15, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 機能分子の組み合わせにかかる機能素子(分子素子)の作製にあたり、0.6nm/分程度のドリフトがある現実的な環境下においても、機能素子の作製に必要な広い測定範囲または位置決め範囲(例えば十数nmから100nm四方以上)の測定または位置決めを10分の1結晶格子間隔程度の高精度にて行うことができる分子素子作製用の位置測定(位置決め)装置を提供する。【解決手段】 制御部は、第1段階目において、サンプルの測定領域に対応する2次元スキャンを参照結晶が有する超格子にかかる格子定数の1/2未満の精度にて制御し、また第2段階目において、測定領域内にあり、測定対象点及びその最近接超格子点をそれぞれ含む複数の小領域に対応する連続的な2次元スキャンを参照結晶にかかる結晶格子定数の1/10程度の精度にて制御する機能を有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

少なくとも、サンプル及び参照結晶を観察(または測定)するための各プローブと、前記サンプル及び前記参照結晶のそれぞれを保持する共通のステージと、前記サンプル及び前記参照結晶と各プローブとの相対的なスキャンの各領域が同一面形状となるように、前記ステージと前記プローブを相対的に2次元スキャンさせる2次元走査機構と、前記2次元走査機構の動作を制御する制御部と、前記2次元スキャンにおいて前記各プローブにより得られた前記参照結晶の測定参照領域にかかる格子画像と前記サンプルの測定領域にかかるサンプル画像を重ね合わせ、各格子点間隔を基準スケールとして、画像からサンプル上の任意点の位置座標を求める処理部と、を有する走査プローブ顕微鏡を備えた分子素子作製用の位置測定(位置決め)装置において、前記制御部は、第1段階目において、前記サンプルの測定領域に対応する2次元スキャンと前記参照結晶の測定参照領域に対応する2次元スキャンを前記参照結晶が有する超格子にかかる格子定数の1/2未満の精度(2倍を越える高精度、高分解能)にて制御し、また第2段階目において、前記測定領域内にあり測定対象点を含む測定小領域に対応する2次元スキャンと前記測定参照領域内にあり前記測定対象点の近接超格子点(一または二以上)を含む測定参照小領域に対応する2次元スキャンを、複数対の測定小領域及び測定参照小領域に対して連続的に行う際に、各2次元スキャンを参照結晶にかかる結晶格子定数の1/10程度の精度(10倍程度の高精度、高分解能)にて制御する機能を有することを特徴とする分子素子作製用の位置測定(位置決め)装置。

IPC (3)：

G01B 21/00 ,  G01N 37/00 ,  H01J 37/28

FI (3)：

G01B 21/00 A ,  G01N 37/00 A ,  H01J 37/28 X