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J-GLOBAL ID：200903079519601304

シリコン含有ブロックコポリマー

Inventor： 加藤 一啓 ,  無藤 和重 ,  十河 正宏
Applicant, Patent owner： 和光純薬工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996352339
Publication number (International publication number)：1997235334
Application date： Dec. 12, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】 塗料用樹脂組成物及び被覆用樹脂組成物等の用途に用いた場合には耐候性、撥水性及び接着性等に優れた該組成物を提供し得、また、頭髪化粧料用の基剤として用いた場合には、耐湿性、セット力及び弾力性に優れ、櫛通りが良く、更にしなやかさを有する基剤を提供し得る新規なブロックコポリマーの提供。【解決手段】 (a)シロキサンセグメントと(b)両性モノマー単位及び/又はカチオン性モノマー単位、及び要すれば(c)両性モノマー並びにカチオン性モノマーの前駆体モノマー単位、及び/又は(d)非イオン性モノマー単位とを構成成分として含んで成るブロックコポリマー、並びにその製造法。

Claim (excerpt)：

(a)シロキサンセグメントと(b)両性モノマー単位及び/又はカチオン性モノマー単位とを構成成分として含んで成るブロックコポリマー。

IPC (4)：

C08F283/12 MQV ,  C08F 2/44 MCS ,  C08L 51/08 LLU ,  C08G 77/26 NUJ

FI (4)：

C08F283/12 MQV ,  C08F 2/44 MCS ,  C08L 51/08 LLU ,  C08G 77/26 NUJ