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J-GLOBAL ID：200903079539960718

窒素酸化物ガスセンサ用感応薄膜の形成方法

Inventor： 宮本 誠 ,  西川 智志 ,  上山 智嗣 ,  花里 善夫 ,  太田 尚美 ,  神谷 俊行 ,  磯田 悟
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 高田 守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992279640
Publication number (International publication number)：1994128721
Application date： Oct. 19, 1992
Publication date： May. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高感度で高速応答性のNOx ガスセンサーが得られる感応薄膜の形成方法を提供する。【構成】 窒素酸化物ガスを選択的に吸着する感応薄膜3を成膜するに際し、基板1に下地薄膜として粒径の制御が可能な化合物の弗化マグネシウム蒸着膜2を形成し、この上に感応薄膜3を形成する。感応薄膜3表面部に凹凸が形成され、表面積、即ち吸着反応面積が大幅に増大する。

Claim (excerpt)：

窒素酸化物ガスを選択的に吸着する感応薄膜を成膜するに際し、上記感応薄膜を形成する基板または下地薄膜に凹凸を形成し、成膜後の上記感応薄膜の表面部に凹凸が形成されるようにしたことを特徴とする窒素酸化物ガスセンサ用感応薄膜の形成方法。

IPC (4)：

C23C 14/02 ,  C23C 14/06 ,  G01N 5/02 ,  G01N 27/12