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J-GLOBAL ID：200903079541720961

流動層焼却装置

Inventor： 須鎗 護 ,  伊藤 正
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 小谷 悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993313748
Publication number (International publication number)：1995167418
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 仕切り部材等の摩耗損傷を避けながら良好な流動層の循環流を形成し、かつ燃焼の安定化を図る。【構成】 流動層を仕切り部材26によって一次燃焼用の第1の流動層S1と二次燃焼用の第2の流動層S2とに仕切り、仕切り部材26の下部に両流動層S1,S2を連通する流動層連通路28を形成する。第1分散板B1から仕切り部材26の上方に向けて第1高速ガスを噴射し、第2分散板B2から第1の流動層S1の上方に向けて第2高速ガスを噴射することにより、流動層の砂粒子を8の字状に循環させる。

Claim (excerpt)：

底部に空気分散板及び不燃物排出部を有するとともに、上記空気分散板上に流動粒子からなる流動層が形成される流動層焼却炉において、上記空気分散板を、被処理物投入位置の下方に設けられ、上記不燃物排出部に向かって傾斜する第1分散板と、上記不燃物排出部を挾んで上記第1分散板と反対側の位置に設けられ、上記不燃物排出部に向かって傾斜する第2分散板とで構成するとともに、上記第1分散板から上方に向けて流動層形成用の流動化ガスを噴射する第1流動化ガス噴射手段と、上記第2分散板から上方に向けて流動層形成用の流動化ガスを噴射する第2流動化ガス噴射手段と、上記第2分散板上において上記不燃物排出部の近傍の位置に設けられ、上記流動層を第1分散板上の第1流動層と上記第2分散板上の第2流動層とに仕切るとともに下部に流動層連通路を有する仕切り部材と、上記第1分散板上において上記不燃物排出部近傍の位置から上記仕切り部材の上方に向けて斜め上方に上記第1流動化ガスよりも大きな速度で第1高速ガスを噴射する第1高速ガス噴射手段と、上記第2分散板上において上記不燃物排出部の近傍の位置から上記第1流動層の上方に向けて上記第2流動化ガスよりも大きな速度で第2高速ガスを噴射する第2高速ガス噴射手段とを備え、上記仕切り部材が上記第1高速ガス及び第2高速ガスの噴射方向から外れるようにこの仕切り部材の配設位置及び形状を設定したことを特徴とする流動層焼却装置。

IPC (4)：

F23G 5/30 ZAB ,  F23G 5/30 ,  F22B 1/02 ,  F23C 11/02 311