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J-GLOBAL ID:200903079543409406

SiC単結晶およびその成長方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 長谷川 芳樹 (外3名) ,  長谷川 芳樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999364593
Publication number (International publication number):2001181095
Application date: Dec. 22, 1999
Publication date: Jul. 03, 2001
Summary:
【要約】【課題】 表面に露出するマイクロパイプおよび積層欠陥が低減されたSiC単結晶およびその成長方法を提供すること。【解決手段】 SiC単結晶を成長させる方法であって、{0001}面に対して角度α(20 ゚<α<60 ゚)だけずれ、且つ、その法線ベクトルを{0001}面に投影したベクトルと<11-20>方向とのなす角度βが15 ゚以内である面30uを露出させたSiC単結晶からなる種結晶30上に、SiC単結晶40を成長させることを特徴とする。
Claim (excerpt):
SiC単結晶を成長させる方法であって、{0001}面に対して角度α(20 ゚<α<60 ゚)だけずれ、且つ、その法線ベクトルを{0001}面に投影したベクトルと<11-20>方向とのなす角度βが15 ゚以内である面を露出させたSiC単結晶からなる種結晶上に、SiC単結晶を成長させることを特徴とするSiC単結晶の成長方法。
IPC (2):
C30B 29/36 ,  C30B 23/00
FI (2):
C30B 29/36 A ,  C30B 23/00
F-Term (6):
4G077AA02 ,  4G077BE08 ,  4G077DA18 ,  4G077ED05 ,  4G077ED06 ,  4G077SA04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 6H-SiC単結晶の成長方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-174952   Applicant:新日本製鐵株式会社
  • 特許第2804860号
Article cited by the Patent:
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