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J-GLOBAL ID：200903079609415771

浄水装置

Inventor： 行谷 まち子 ,  久保田 亨 ,  山口 徹
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝エー・ブイ・イー株式会社
Agent (1)： 三好 秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997068568
Publication number (International publication number)：1998263535
Application date： Mar. 21, 1997
Publication date： Oct. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、安定した高い浄水能力を長期的に維持することを目的とする。【解決手段】 紫外線を含む光を発する光源4と、光源4を覆うように形成され光源4からの光を透過する光透過性部材5と、被浄化処理含水液体が接触する光透過性部材5の外表面に形成され光源4からの光で励起されて化学反応により被浄化処理含水液体を浄化する光励起薄膜6とを有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

紫外線を含む光を発する光源と、該光源を覆うように形成され当該光源からの光を透過する光透過性部材と、被浄化処理含水液体が接触する前記光透過性部材の外表面に形成され前記光源からの光で励起されて化学反応により前記被浄化処理含水液体を浄化する光励起薄膜とを有することを特徴とする浄水装置。

IPC (7)：

C02F 1/32 ,  A61L 2/10 ,  B01D 35/027 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 3/06 ZAB ,  F24H 9/00

FI (7)：

C02F 1/32 ,  A61L 2/10 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 3/06 ZAB ,  F24H 9/00 W ,  B01D 35/02 J