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J-GLOBAL ID：200903079620843750

光メモリー素子の製造方法および製造装置

Inventor： 磯野 仁志 ,  乾 哲也 ,  太田 賢司
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 原 謙三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993106837
Publication number (International publication number)：1994318344
Application date： May. 07, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】 磁性体粒子を樹脂に分散させた混合体4aをフィルムベース1に塗布する工程と、混合体4aを塗布したフィルムベース1を圧接ローラー11の円筒面で曲げながら、凹面形状のスタンパー10で押圧して、塗布された混合体4aにプリグルーブを形成する工程と、混合体4aを硬化させることにより、フィルムベース1を平坦に戻し、混合体4aに分散させた磁性体粒子をフィルムベース1に沿った方向に圧縮する工程からなる光磁気ディスクの製造方法および、これを実施する製造装置。【効果】 記録媒体層にプリグルーブが直接形成されており、しかも、記録媒体層が大きな垂直磁気異方性を有している光磁気ディスクを効率良く製造することができる。

Claim (excerpt)：

磁性体粒子を分散させた樹脂をフィルムベースに塗布する工程と、樹脂を塗布したフィルムベースを圧接ローラーの円筒面で曲げながら、凹面形状のスタンパーで押圧して、塗布された樹脂にプリグルーブを形成する工程と、樹脂を硬化させることにより、フィルムベースを平坦に戻し、樹脂に分散させた磁性体粒子をフィルムベースに沿った方向に圧縮する工程からなることを特徴とする光メモリー素子の製造方法。