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J-GLOBAL ID:200903079629442180

非水電解質二次電池

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004064045
Publication number (International publication number):2004193139
Application date: Mar. 08, 2004
Publication date: Jul. 08, 2004
Summary:
【課題】過放電サイクル性能が改善された非水電解質二次電池を提供する。【解決手段】厚さが0.05〜0.25mmの金属板もしくは樹脂含有シートから形成された外装材2と、前記外装材2内に収納される正極と、前記外装材2内に収納され、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成された集電体と、前記集電体に担持され、かつLiの電極電位に対して0.4V以上の電位でリチウムを吸蔵する負極活物質を含有する負極層とを含む負極と、前記外装材2内に収納され、γ-ブチロラクトンを含有する非水電解質とを具備することを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
厚さが0.05〜0.25mmの金属板もしくは樹脂含有シートから形成された外装材と、 前記外装材内に収納される正極と、 前記外装材内に収納され、アルミニウムまたはアルミニウム合金から形成された集電体と、前記集電体に担持され、かつLiの電極電位に対して0.4V以上の電位でリチウムを吸蔵する負極活物質を含有する負極層とを含む負極と、 前記外装材内に収納され、γ-ブチロラクトンを含有する非水電解質と を具備することを特徴とする非水電解質二次電池。
IPC (6):
H01M10/40 ,  H01M2/02 ,  H01M4/02 ,  H01M4/48 ,  H01M4/58 ,  H01M4/66
FI (6):
H01M10/40 A ,  H01M2/02 K ,  H01M4/02 D ,  H01M4/48 ,  H01M4/58 ,  H01M4/66 A
F-Term (55):
5H011AA03 ,  5H011AA17 ,  5H011BB03 ,  5H011CC10 ,  5H011KK01 ,  5H017AA03 ,  5H017AS02 ,  5H017AS10 ,  5H017CC01 ,  5H017EE05 ,  5H017HH03 ,  5H017HH10 ,  5H029AJ05 ,  5H029AJ15 ,  5H029AK02 ,  5H029AK03 ,  5H029AK15 ,  5H029AK16 ,  5H029AL01 ,  5H029AL02 ,  5H029AL03 ,  5H029AL04 ,  5H029AL18 ,  5H029AM03 ,  5H029AM04 ,  5H029AM05 ,  5H029AM07 ,  5H029BJ04 ,  5H029DJ02 ,  5H029DJ07 ,  5H029EJ01 ,  5H029EJ12 ,  5H029HJ02 ,  5H029HJ04 ,  5H029HJ18 ,  5H050AA04 ,  5H050AA07 ,  5H050AA20 ,  5H050CA02 ,  5H050CA05 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA20 ,  5H050CA24 ,  5H050CA26 ,  5H050CB01 ,  5H050CB02 ,  5H050CB03 ,  5H050CB05 ,  5H050CB29 ,  5H050DA03 ,  5H050DA08 ,  5H050HA02 ,  5H050HA04 ,  5H050HA18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 二次電池
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-121708   Applicant:有限会社ハイバル
  • 二次電池
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-080666   Applicant:有限会社ハイバル
  • リチウム二次電池
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-257014   Applicant:インダストリアルテクノロジーリサーチインスチチュート
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