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J-GLOBAL ID：200903079652017160

装飾クロムめっき皮膜の形成方法

Inventor： 加藤 守 ,  竹内 宏充
Applicant, Patent owner： 豊田合成株式会社
Agent (1)： 松原 等
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992315844
Publication number (International publication number)：1994146070
Application date： Oct. 30, 1992
Publication date： May. 27, 1994
Summary：

【要約】【目的】 装飾クロムめっき皮膜において、ニッケルめっき層の腐食電位の低下を招くことなく、その上層のクロムめっき層の付廻り性を向上させる。【構成】 銅基材1の表面に、半光沢ニッケルめっき層2、光沢ニッケルめっき層3、分散ストライクニッケルめっき層4及びクロムめっき層5を順に積層してなるマイクロポーラスクロムめっき皮膜6を形成する。分散ストライクニッケルめっき層4形成用のめっき浴にCrO3 を添加すると、6価のクロムイオン(Cr6+)は分散ストライクニッケルめっき層4中に共析するため、その上層にクロムめっき層5を形成するときに、析出するクロムの核形成を促進する。

Claim (excerpt)：

ニッケルめっき層と、ニッケルめっき層上に形成したクロムめっき層とを含む装飾クロムめっき皮膜の形成方法において、ニッケルめっき層形成用のめっき浴にクロムイオンを5〜20ppm添加したことを特徴とする装飾クロムめっき皮膜の形成方法。

IPC (2)：

C25D 5/14 ,  C25D 15/02