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J-GLOBAL ID：200903079653522097

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 丹 史郎 ,  青合 利明 ,  藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997167405
Publication number (International publication number)：1999015161
Application date： Jun. 24, 1997
Publication date： Jan. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高解像力を有し、孤立パターンの寸法再現性を改良した、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基が特定の各々別の酸分解性基で置換されている樹脂を2種、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)で示される基で置換されている樹脂A、(b)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(II)または(III)で示される基で置換されている樹脂B、(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 は、炭素数1〜4個のアルキル基から選ばれた置換基を表す。Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子のうちの少なくとも1つの原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基及びメルカプト基からなる群から選ばれた原子団を表す。nは1から4までの自然数を表す。R4 は、炭素数1〜4個の直鎖、分岐あるいは環状のアルキル基を表す。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R