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J-GLOBAL ID：200903079668932313

化学めっき廃液の高度処理方法

Inventor： 矢野 富久雄 ,  永吉 幸二 ,  菊池 文彦
Applicant, Patent owner： 吉玉精鍍株式会社
Agent (1)： 三枝 英二 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992189062
Publication number (International publication number)：1994031298
Application date： Jul. 16, 1992
Publication date： Feb. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 現今の厳しい排出規制に対応して、BOD、有機系COD、無機系COD、窒素化合物、リン化合物、キレート錯体(EDTAなど)などを併せて処理し得る新たな化学めっき廃液処理方法を提供することを主な目的とする。【構成】 1.化学めっき廃液の処理方法において、被処理廃液を電解酸化処理、凝集沈澱処理、吸着処理および酸化剤処理に順次供し、次いでミクロ多孔体の存在下に該被処理廃液に空気を混合させた後、さらに紫外線照射処理とオゾン処理とに供することを特徴とする化学めっき廃液の高度処理方法。

Claim (excerpt)：

化学めっき廃液の処理方法において、被処理廃液を電解酸化処理、凝集沈澱処理、吸着処理および酸化剤処理に順次供し、次いでミクロ多孔体の存在下に該被処理廃液に空気を混合させた後、さらに紫外線照射処理とオゾン処理とに供することを特徴とする化学めっき廃液の高度処理方法。

IPC (10)：

C02F 9/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/46 ,  C02F 1/461 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/74 101 ,  C02F 1/78