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J-GLOBAL ID:200903079695026570

プラズマ溶射装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高田 守
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992052175
Publication number (International publication number):1993255831
Application date: Mar. 11, 1992
Publication date: Oct. 05, 1993
Summary:
【要約】【目的】 プラズマ溶射装置において、膜厚,膜質制御能力の高いプラズマ溶射装置を得ることを目的とする。【構成】 プラズマ溶射装置において、プラズマアーク放電3を瞬間発光分光器6にて測定し、解析・制御部7で解析を行い、溶射母材とキャリアガスのプラズマアーク放電強度比から溶射母材供給量およびキャリアガス流量の変化を検知する。また、解析・制御部7で、この検知結果を元にフィードバック信号の作成を行い、プラズマ溶射装置の本体1にフィードバックをかけることにより制御性が向上するようにしたことを特徴としている。
Claim (excerpt):
溶射母材の粉末をキャリアガスで搬送し、高周波電界によりプラズマアーク放電としてトーチ部より被溶射基板に溶射するプラズマ溶射装置において、前記溶射母材とキャリアガスのプラズマアーク放電強度比を求める発光スペクトル解析手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (2):
C23C 4/00 ,  H05H 1/36

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