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J-GLOBAL ID：200903079699257207

レジスト組成物およびそれを用いたパタン形成方法

Inventor： 逆水 登志夫 ,  白石 洋 ,  加藤 幸治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995045254
Publication number (International publication number)：1996240907
Application date： Mar. 06, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】製造直後においても、長期保存後においても微粒子が少なく、保存安定性に優れた化学増幅系レジストを提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂と酸分解性基(例:テトラヒドロピラニルオキシ基)を含むポリビニルフェノールと化1で示される水溶性酸前駆体を、ピルビン酸アルキル,エチル-3-エトキシプロピオネート,酢酸ブチルあるいは酢酸アミルの中から選ばれる少なくとも一種類の溶媒に溶解し、レジスト組成物とした。【化1】

Claim (excerpt)：

酸を触媒とし反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体,水溶性酸前駆体および溶媒を含む化学増幅系レジスト組成物において、前記溶媒がピルビン酸アルキル,エチル-3-エトキシプロピオネート,酢酸ブチルあるいは酢酸アミルの中から選ばれる少なくとも一種類であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (5)：

G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/30 502 R