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J-GLOBAL ID：200903079705241555

ウエハチャックおよびそれを用いた露光装置

Inventor： 矢崎 秀彦 ,  水野 匡宏
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
Agent (1)： 筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994172355
Publication number (International publication number)：1996037227
Application date： Jul. 25, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ウエハチャックに吸着保持された半導体ウエハの反りを防止できるウエハチャックを提供する。【構成】 外周壁12に囲まれた吸引室13を負圧にすることによって支持ピン15に支持された半導体ウエハ11を吸着保持するウエハチャック1であって、外周壁12の上面に吸気溝12aが形成され、外部の気体が吸気溝12aから吸引室13内に吸引されるものである。これによれば、吸気溝12aによって外部からの気体が半導体ウエハ11の裏面に沿って流れることによりベンチュリー効果が発生するので、半導体ウエハ11の外周部に反りを防止しようとする方向の力が作用し、半導体ウエハ11は平坦な状態に吸着保持される。

Claim (excerpt)：

外周壁に囲まれた吸引室を負圧にすることによって支持ピンに支持された半導体ウエハを平坦に吸着保持するウエハチャックであって、前記外周壁の上面に吸気溝が形成され、外部の気体が前記吸気溝から前記吸引室内に吸引されることを特徴とするウエハチャック。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/027