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J-GLOBAL ID：200903079708992276

スパッタ中性粒子質量分析装置

Inventor： 三上 朗 ,  鈴木 郁央
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 丸山 敏之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991296765
Publication number (International publication number)：1993251035
Application date： Nov. 13, 1991
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 精度の高い分析結果が得られる簡易な構成のスパッタ中性粒子質量分析装置を提供する。【構成】 試料(2)の表面へイオンビームを照射するイオン銃(1)と、試料から発生する中性粒子にレーザビームを照射するレーザ光源(5)と、該レーザビームによってイオン化された粒子を加速するイオン引出し電極(3)と、加速されたイオン粒子を採り込んで質量分析を施す質量分析計(4)とを具える共に、試料(2)とイオン引出し電極(3)の間には中間電極(6)を設置して、試料表面とイオン引出し電極間には、電位分布の一様な無電場空間を形成する。

Claim (excerpt)：

質量分析の対象とする試料にイオンビームを照射するイオン発生源と、試料から発生する中性粒子に光ビームを照射する光発生源と、該光ビームによってイオン化された粒子を加速するイオン引出し電極と、加速されたイオン粒子を採り込んで質量分析を施す質量分析計とを具えたスパッタ中性粒子質量分析装置において、試料とイオン引出し電極の間に中間電極を設置して、試料表面と中間電極の間に電位分布の一様な無電場空間を形成し、該空間へ向けて前記光発生源が配置されることを特徴とするスパッタ中性粒子質量分析装置。

IPC (2)：

H01J 49/10 ,  H01J 49/26