半導体薄膜の形成方法および薄膜半導体装置の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：船橋國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008287250
Publication number (International publication number)：2009177136
Application date： Nov. 10, 2008
Publication date： Aug. 06, 2009
Summary：

【課題】加熱による移動度の低下とこれによる特性劣化を抑制可能で、耐熱性の向上が図られた半導体薄膜をより簡便な手順によって得ることが可能な半導体薄膜の形成方法を提供する。【解決手段】有機半導体材料を含む複数種類の有機材料を混合した溶液を基板上に塗布または印刷して薄膜を形成し、薄膜を乾燥させる過程で複数種類の有機材料を相分離させる。これにより、2層の半導体層a,a’間に有機絶縁性材料からなる中間層bが挟持された積層構造の半導体薄膜1を得る。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

有機半導体材料を含む複数種類の有機材料を混合した溶液を基板上に塗布又は印刷して薄膜を形成し、前記薄膜を乾燥させる過程で前記複数種類の有機材料を相分離させることにより、前記有機半導体材料からなる半導体層を含む積層構造の半導体薄膜を形成する半導体薄膜の形成方法。

IPC (6)：

H01L 21/368 , H01L 21/336 , H01L 29/786 , H01L 51/05 , H01L 51/40 , H01L 51/50

FI (11)：

H01L21/368 L , H01L29/78 618A , H01L29/78 618B , H01L29/78 618E , H01L29/78 619A , H01L29/78 617T , H01L29/78 617U , H01L29/78 617V , H01L29/28 100A , H01L29/28 310J , H05B33/14 A

F-Term (70)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC11 , 3K107CC24 , 3K107CC45 , 3K107EE04 , 5F053AA50 , 5F053DD19 , 5F053FF01 , 5F053HH10 , 5F053LL10 , 5F053PP03 , 5F053RR04 , 5F110AA16 , 5F110AA23 , 5F110AA26 , 5F110BB01 , 5F110CC01 , 5F110CC03 , 5F110CC05 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD12 , 5F110DD17 , 5F110DD21 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE42 , 5F110EE43 , 5F110EE44 , 5F110EE45 , 5F110FF01 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF09 , 5F110FF10 , 5F110FF28 , 5F110FF29 , 5F110GG05 , 5F110GG06 , 5F110GG07 , 5F110GG12 , 5F110GG13 , 5F110GG15 , 5F110GG19 , 5F110GG39 , 5F110GG42 , 5F110GG57 , 5F110GG58 , 5F110HK02 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK32 , 5F110HK33 , 5F110HK34 , 5F110HK41 , 5F110HK42 , 5F110NN03 , 5F110NN13 , 5F110NN22 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN33 , 5F110NN62 , 5F110NN65 , 5F110NN71 , 5F110NN73 , 5F110QQ06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ回路、電子デバイスおよび電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-050099 Applicant：セイコーエプソン株式会社
ブロック・コポリマーの改良型自己組織化パターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-008935 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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