Pat

J-GLOBAL ID：200903079745436413

クリ-ンル-ム汚染物質除去システム

Inventor： 鈴木 令 ,  梶間 智明 ,  那須原 和良 ,  原田 博司 ,  鈴木 良延 ,  白谷 毅 ,  萩野谷 道雄 ,  関口 猛
Applicant, Patent owner： 清水建設株式会社
Agent (1)： 阿部 龍吉 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999095603
Publication number (International publication number)：2000033221
Application date： Apr. 02, 1999
Publication date： Feb. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 簡単な構成により汚染物質を高効率で除去しランニングコストの低減を図る。【解決手段】 クリーンルーム1の空気中に存在する特有の汚染物質を除去するクリーンルーム汚染物質除去システムであって、汚染物質を含む空気を液体と接触させることにより汚染物質を除去する湿式汚染物質除去手段3を設け、該湿式汚染物質除去手段3にクリーンルーム1の室内空気を吸引し、清浄化した空気をクリーンルーム1に循環させる。湿式汚染物質除去手段3は、冷水により液体を冷却する冷却槽5を有し、該冷却槽5により冷却した低温水と汚染物質を含む空気を接触させる。

Claim (excerpt)：

クリーンルームの空気中に存在する特有の汚染物質を除去するクリーンルーム汚染物質除去システムであって、汚染物質を含む空気を液体と接触させることにより汚染物質を除去する湿式汚染物質除去手段を設け、該湿式汚染物質除去手段にクリーンルームの室内空気を吸引し、清浄化した空気をクリーンルームに循環させるようにしたことを特徴とするクリーンルーム汚染物質除去システム。

IPC (5)：

B01D 53/14 ,  A61L 9/16 ,  B01D 47/06 ,  B01D 53/18 ,  F24F 7/06

FI (5)：

B01D 53/14 C ,  A61L 9/16 Z ,  B01D 47/06 A ,  B01D 53/18 E ,  F24F 7/06 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 空気調和機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-009969   Applicant：株式会社日立製作所, 日立北海セミコンダクタ株式会社