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J-GLOBAL ID：200903079763908969

投影露光方法

Inventor： 杉山 秀司 ,  露木 寿正
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 長崎 博男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249109
Publication number (International publication number)：1994020921
Application date： Sep. 21, 1982
Publication date： Jan. 28, 1994
Summary：

【要約】【構成】 被露光物を移動させてその被露光物に第1の原画模様を投影光学系により順次転写し、更にその転写された被露光物にこれを移動させて第2の原画模様を前記投影光学系により順次重ね合わせ転写する投影露光方法において、前記被露光物に転写された第1の原画模様のうちの少なくとも3個の原画模様の位置を検出し、その検出結果に基づいて、前記転写された第1の原画模様の配列位置を求め(例えば図4に示されるようにX方向に伸びがある場合には、検出により求められた(x0、y0)、(xa、ya)、(xb、yb)の3点の座標からx1、x2を求めることにより5行5列のチップ配列が決定できる)、その求められた位置に前記記第2の原画模様を重ね合わせ転写する。【効果】 高スループット及び高精度アライメントという互いに相反する利点が期待できる投影露光方法を提供可能とする。

Claim (excerpt)：

被露光物を移動させてその被露光物に第1の原画模様を投影光学系により順次転写し、更にその転写された被露光物にこれを移動させて第2の原画模様を前記投影光学系により順次重ね合わせ転写する投影露光方法において、前記被露光物に転写された第1の原画模様のうちの少なくとも3個の原画模様の位置を検出し、その検出結果に基づいて、前記転写された第1の原画模様の配列位置を求め、その求められた位置に前記記第2の原画模様を重ね合わせ転写することを特徴とする投影露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00