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J-GLOBAL ID：200903079774233238

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

Inventor： 稲垣 靖史
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000341094
Publication number (International publication number)：2002151457
Application date： Nov. 08, 2000
Publication date： May. 24, 2002
Summary：

【要約】【課題】 均一安定な基板洗浄を可能とし、同時に省資源化、廃棄物低減化を可能とする。【解決手段】 弗化アンモニウムを含む水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、定期的に所定成分の濃度測定を行い、この測定結果に基づいて必要に応じて濃度を是正する成分を追加補充する。例えば、測定する成分をHFとし、測定結果が設定範囲を下回った場合にはHF成分を補充し、測定結果が設定範囲を上回った場合にはアンモニア成分を補充する。

Claim (excerpt)：

弗化アンモニウムを含む水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、上記洗浄液中の所定の成分の濃度を測定し、測定結果が設定範囲を外れたときには洗浄液に当該成分濃度を是正する成分を補充することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (7)：

H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/08 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/308

FI (7)：

H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/08 Z ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/308 G

F-Term (23)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088MA20 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F043BB27 ,  5F043DD30 ,  5F043EE23 ,  5F043EE27

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• エッチング処理液の制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-199648   Applicant：三菱化成株式会社
• 薬液濃度管理方法、管理装置および薬液処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-319373   Applicant：日本電気株式会社
• ふっ酸液の濃度測定のための自動前処理装置及びふっ酸液の自動供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-221466   Applicant：松下電子工業株式会社, 三菱化学株式会社

Cited by examiner (3)

• エッチング処理液の制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-199648   Applicant：三菱化成株式会社
• 薬液濃度管理方法、管理装置および薬液処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-319373   Applicant：日本電気株式会社
• ふっ酸液の濃度測定のための自動前処理装置及びふっ酸液の自動供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-221466   Applicant：松下電子工業株式会社, 三菱化学株式会社