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J-GLOBAL ID：200903079774252836

表面処理キセロゲルを用いたイオン分離

Inventor： ヤング,アーサー・ジング-ミン
Applicant, Patent owner： インダストリアル・サイエンス・アンド・テクノロジー・ネツトワーク・インコーポレーテツド
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000530299
Publication number (International publication number)：2002502684
Application date： Feb. 03, 1999
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：

【要約】シリカゲルを生じさせた後、それに熟成を40-80°Cで受けさせる。次に、これに表面修飾を前記温度で受けさせ、そして結果として得た材料を用いて金属イオンを溶液から取り除く。

Claim (excerpt)：

シラノール(Si-OH)基を表面に有していてゲル構造内に開放通路を多数するナノポラス連続気泡官能化シリカゲルを製造する方法であって、(a)シリカゾル溶液をゲル化させて湿ったシリカゲルを生じさせ、(b)前記シリカゲルを湿った状態で約40から約80°Cの範囲の温度に維持することでシラノール(Si-OH)基を表面に有していてゲル構造内に開放通路を多数有する湿ったナノポラスシリカゲルを得、そして(c)選択的吸着または反応触媒作用に有効な官能化基を導入する配位子基を前記表面のシラノール基と反応させる、ことを含んで成る方法。

IPC (2)：

B01J 20/10 ,  B01J 39/14

FI (2)：

B01J 20/10 D ,  B01J 39/14

F-Term (15)：

4G066AA22A ,  4G066AA22B ,  4G066AB06A ,  4G066AB18D ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA28 ,  4G066BA38 ,  4G066CA11 ,  4G066CA45 ,  4G066CA46 ,  4G066DA07 ,  4G066DA08 ,  4G066FA03 ,  4G066FA34