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J-GLOBAL ID:200903079777091973

プリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 三浦 進二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991015943
Publication number (International publication number):1993013936
Application date: Jan. 14, 1991
Publication date: Jan. 22, 1993
Summary:
【要約】【目的】 半田付けプリント基板の洗浄により生成する希薄排水から水を回収する方法において、リンスシャワーに再使用できるレベルの殺菌状態の処理水を得る。【構成】 マイクロフィルター2及び/又は9による微粒子除去、活性炭吸着塔3による有機物除去、イオン交換樹脂塔4及び5又は混床塔10による金属イオン分及び有機酸分除去の各工程を含む上記希薄排水からの水回収方法において、有機物除去及び金属イオン分・有機酸分除去を終えた処理水をUV殺菌器7により紫外線殺菌する工程を更に加える。
Claim (excerpt):
プリント基板の洗浄により生成する希薄排水から水を回収する方法において、排水から有機物を除去する工程、有機物除去工程を経た処理水から金属イオン分及び有機酸分を除去する工程、及び金属イオン分・有機酸分除去工程を経た処理水を紫外線殺菌する工程、更に、排水又はいづれかの処理水から微粒子を除去する工程を包含することを特徴とするプリント基板洗浄希薄排水からの水の回収方法。
IPC (9):
H05K 3/26 ,  B01J 41/04 ,  B01J 47/04 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 9/00 ,  B01D 61/14 500 ,  C02F 1/44

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