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J-GLOBAL ID：200903079777938879

片末端官能性ジオルガノポリシロキサンの製造方法

Inventor：
大川 直

About 大川 直


Applicant, Patent owner：
東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社

About 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994113951
Publication number (International publication number)：1995292109
Application date： Apr. 28, 1994
Publication date： Nov. 07, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 純度の高い片末端官能性ジオルガノポリシロキサンを生産性よく製造する方法の提供。【構成】 (A)環状トリシロキサンを、(B)R(R2SiO)mHで示されるオルガノシランもしくはオルガノシロキサンの存在下または非存在下に、(C)R(R2SiO)nLiのリチウム化合物触媒により非平衡重合反応させ、次いでこの非平衡重合反応を、(D)酸またはR'R2SiXのオルガノハロゲノシランにより停止させ、R(R2SiO)pBで示される片末端官能性ジオルガノポリシロキサンを製造する方法において、上記非平衡重合反応を、(E)ニトリル化合物またはエステル化合物、および(F)活性水素を有しない極性溶媒の存在下で行う、片末端官能性ジオルガノポリシロキサンの製造方法(Rは炭化水素基m≧1,n≧0。R'は水素原子または有機官能性基であり、Xはハロゲン原子であり、Bは水素原子またはオルガノシリル基、p≧1。)。
Claim (excerpt)：
(A)一般式:【化1】(式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基である。)で示される環状トリシロキサンを、(B)一般式:R(R2SiO)mH(式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基であり、mは1以上の整数である。)で示されるオルガノシランもしくはオルガノシロキサンの存在下または非存在下に、(C)一般式:R(R2SiO)nLi(式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基であり、nは0または1以上の整数である。)で示されるリチウム化合物触媒により非平衡重合反応させ、次いでこの非平衡重合反応を、(D)酸または一般式:R'R2SiX(式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基であり、R'は水素原子または有機官能性基であり、Xはハロゲン原子である。)で示されるオルガノハロゲノシランにより停止させることにより、一般式:R(R2SiO)pB{式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基であり、Bは水素原子または一般式:-SiR2R'(式中、Rは同種または異種の一価炭化水素基であり、R'は水素原子または有機官能性基である。)で示されるオルガノシリル基であり、pは1以上の整数である。}で示される片末端官能性ジオルガノポリシロキサンを製造する方法において、上記非平衡重合反応を、(E)ニトリル化合物またはエステル化合物、および(F)活性水素を有しない極性溶媒の存在下で行うことを特徴とする、片末端官能性ジオルガノポリシロキサンの製造方法。
IPC (2)：
C08G 77/06 NUB ,  C08G 77/08 NUD
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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