パターン欠陥検査装置および方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：筒井大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005144817
Publication number (International publication number)：2006322766
Application date： May. 18, 2005
Publication date： Nov. 30, 2006
Summary：

【課題】ウェハ上の多様な欠陥を高速、高感度に検出するパターン欠陥検査装置および方法を提供する。【解決手段】パターン欠陥検査装置において、複数の波長を出力可能な照明光源3から射出された光を、照明光学系4で線状に照明する。ウェハ1上の回路パターンや欠陥により回折、散乱された光は、結像光学系5でラインセンサ6に集光され、ディジタル信号に変換され、信号処理部7で欠陥が検出される。このとき、照明光学系4の光軸101と結像光学系5の光軸102でなす面と配線パターンの方向をほぼ平行にし、さらに、結像光学系5の光軸102とウェハ1とのなす角度を、パターンからの回折光が少なくなる角度に設定することにより、高感度に欠陥を検出する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

試料を照明する照明手段と、前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像する結像手段と、前記結像手段により形成された前記試料の像を光電変換する検出手段と、前記検出手段から出力された信号を処理し、前記試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、前記照明手段の光軸と前記結像手段の光軸とがなす面が前記試料上の配線パターンとほぼ平行であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (1)：

G01N 21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (17)：

2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA08 , 2G051BA20 , 2G051BB03 , 2G051BB09 , 2G051CA03 , 2G051CA06 , 2G051CB05 , 2G051CB06 , 2G051DA05 , 2G051EA04 , 2G051EA23 , 2G051EB03 , 2G051EC02 , 2G051EC05 , 2G051ED11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭61-212708号公報
被検査パターンの欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-128197 Applicant：株式会社日立製作所
検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-234268 Applicant：株式会社東芝

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Cited by examiner (7)

欠陥検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-184881 Applicant：株式会社ニデック
欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-206078 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
微小欠陥検査方法およびその装置並びに露光方法および半導体基板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-022312 Applicant：株式会社日立製作所

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