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J-GLOBAL ID:200903079802308796

表示素子用蛍光膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 和田 成則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998141267
Publication number (International publication number):1999329235
Application date: May. 22, 1998
Publication date: Nov. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 表示素子用ストライプまたはドットパターンの蛍光膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 基板から所定間隔ほど離隔された位置に基材フィルム、光吸収層、緩衝層及び蛍光体層よりなるドナーフィルムを設ける段階と、前記ドナーフィルムにエネルギー源からエネルギーを照射して蛍光体を前記基板上に転写させた後、熱処理する段階とを含む。これにより、埃や異物による不良が減少し、従来方法に比べて歩留まりが向上され、工程が単純なので生産性が向上され、かつ高解像度の画面の具現が可能である。
Claim (excerpt):
a)基板から所定間隔ほど離隔された位置に基材フィルム、光吸収層、緩衝層及び蛍光体層よりなるドナーフィルムを設ける段階と、b)前記ドナーフィルムにエネルギー源からエネルギーを照射して前記蛍光体層の蛍光体を前記基板上に転写させた後、熱処理する段階とを含むことを特徴とする表示素子用蛍光膜の製造方法。
IPC (2):
H01J 9/227 ,  G02F 1/1333
FI (4):
H01J 9/227 C ,  H01J 9/227 E ,  H01J 9/227 F ,  G02F 1/1333
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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