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J-GLOBAL ID：200903079803126446

アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法およびフェノール基含有ケイ素化合物の製造方法

Inventor： 尼子 雅章 ,  大川 直
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998259258
Publication number (International publication number)：2000072781
Application date： Aug. 28, 1998
Publication date： Mar. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 生産性よくアリールシリルエーテル化合物の脱シリル化を行う方法および副反応を起こすことなく選択的にフェノール基含有ケイ素化合物を製造する方法を提供することにある。【解決手段】 1分子中に少なくとも1個のトリオルガノシロキシアリール基を有する有機ケイ素化合物を、アミン化合物またはアンモニアを触媒としてプロトン性溶媒の存在下で脱シリル化することを特徴とする、アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法。

Claim (excerpt)：

1分子中に少なくとも1個のトリオルガノシロキシアリール基を有する有機化合物を、アミン化合物またはアンモニアを触媒としてプロトン性溶媒の存在下で脱シリル化することを特徴とする、アリールシリルエーテル化合物の脱シリル化方法。

IPC (3)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/02 ,  C08G 77/38

FI (3)：

C07F 7/08 X ,  C07F 7/02 Z ,  C08G 77/38

F-Term (41)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ17 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ30 ,  4H049VQ57 ,  4H049VQ78 ,  4H049VQ79 ,  4H049VQ87 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS20 ,  4H049VS30 ,  4H049VS57 ,  4H049VS78 ,  4H049VS79 ,  4H049VS87 ,  4H049VT32 ,  4H049VT36 ,  4H049VT40 ,  4H049VT43 ,  4H049VT48 ,  4H049VT49 ,  4H049VV05 ,  4H049VV08 ,  4H049VV20 ,  4H049VW02 ,  4H049VW33 ,  4J035BA01 ,  4J035CA08M ,  4J035CA08N ,  4J035CA081 ,  4J035CA25U ,  4J035FB01 ,  4J035FB02 ,  4J035FB03 ,  4J035LA05