Pat

J-GLOBAL ID：200903079853035468

インクジェット用記録液

Inventor： 上野 嘉睦 ,  間 清二 ,  藤ヶ森 勉 ,  飯田 保春
Applicant, Patent owner： 東洋インキ製造株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996251219
Publication number (International publication number)：1998095946
Application date： Sep. 24, 1996
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】顔料分散タイプのインクジェット記録液において、透明でかつ保存安定性やノズルでの吐出安定性の良好なインクジェット用記録液を提供する。【解決手段】顔料、水、分散剤、および水性樹脂を必須成分とする記録液において、分散剤として下記一般式(1)で示される化合物および下記一般式(2)で示される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用記録液。 一般式(1) (R1)k -Q-O-(CH2 CH2 O )n H (式中Qはアリール環残基、R1 は置換または無置換のフェニル基、ベンジル基またはスチリル基、kは0〜3、nは2〜100の範囲にある任意の数を表す。)一般式(2) (R2)m -P-X-SO3 M(式中Pはアリール環残基、有機色素残基または複素環残基、R2 は置換または無置換のフェニル基、ベンジル基またはスチリル基、mは0〜3の範囲にある任意の数、Xは直接結合または付加モル数1〜100のポリオキシエチレン基、Mはアルカリ金属、アンモニウムまたはアルカノールアミンを示す。)

Claim (excerpt)：

顔料、水、分散剤、および水性樹脂を必須成分とする記録液において、分散剤として下記一般式(1)で示される化合物および下記一般式(2)で示される化合物を含有することを特徴とするインクジェット用記録液。 一般式(1) (R1)k -Q-O-(CH2 CH2 O )n H (式中Qはアリール環残基、R1 は置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のベンジル基、置換または無置換のスチリル基、kは0〜3、nは2〜100の範囲にある任意の数を表す。)一般式(2) (R2)m -P-X-SO3 M(式中Pはアリール環残基、有機色素残基または複素環残基、R2 は置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のベンジル基、置換または無置換のスチリル基、mは0〜3の範囲にある任意の数、Xは直接結合または付加モル数1〜100のポリオキシエチレン基、Mはアルカリ金属、アンモニウムまたはアルカノールアミンを示す。)

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• インクジェット用水分散型記録液およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-209575   Applicant：東洋インキ製造株式会社
• 記録液、これを用いたインクジェット記録方法および記録装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-043680   Applicant：キヤノン株式会社
• 細分された顔料分散液、水性顔料懸濁液、分散液の製造方法及びこの分散液を含有する耐水性インク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-020964   Applicant：ゼネカ・リミテッド
• 特開昭56-058078