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J-GLOBAL ID：200903079888331140

エバネッセント光露光用マスク、その製造方法及びエバネッセント光露光装置

Inventor： 池田 勉 ,  黒田 亮
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998019450
Publication number (International publication number)：1999218901
Application date： Jan. 30, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 被露光物の微細加工を可能とするエバネッセント光露光用マスク、その製造方法及びエバネッセント光露光装置を提供する。【解決手段】 マスク母材201の表面に金属層203を形成し、その後、走査型プローブ顕微鏡220により金属層203表面に対して微小開口204を形成する。これにより微小開口204が金属層203の表面より、凸状に隆起したエバネッセント光露光用マスクが得られる。

Claim (excerpt)：

光を透過する基板と、前記基板の表面に形成され、露光パターンに則した光透過部が設けられた金属層とを有するエバネッセント光露光用マスクにおいて、前記光透過部は前記金属層の表面より隆起した形状であることを特徴とするエバネッセント光露光用マスク。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 509