インライン検査用検査データ解析処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996004227
Publication number (International publication number)：1997199551
Application date： Jan. 12, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】一般ユーザが半導体製造プロセスに於ける問題発生工程を容易に検査データから知り得ることとして、製品歩留りの向上・品質の向上を図る。【解決手段】あるインライン検査工程において、CPU3は、検査装置本体1が採取したデータ信号V1をメモリ2に格納し、前工程で得た結果V6をメモリ6から読み出してメモリ2に格納する。CPU3はメモリ2の格納データ信号V2を読み出し、当該工程での検出欠陥のデータと前工程の結果V6とを比較・照合して、当該工程に関するデータ解析処理結果V5を生成する。その結果V5は、消滅欠陥データ,共通の欠陥データ,当該工程番号のラベルを付した新規欠陥データ,復活欠陥データとから成る。CPU3は上記処理を各インライン検査工程毎に実行し、得られたデータを編集して各工程の検出欠陥数と消滅欠陥数とを与えるヒストグラムデータを作成する。

Claim (excerpt)：

各半導体製造時の任意の工程における検査工程後において半導体ウェハより採取する検出欠陥データ信号を解析処理するインライン検査用検査データ解析処理装置において、(a) 最初の検査工程では、受け取った前記検出欠陥データ信号に基づき、前記最初の検査工程に関する欠陥データ解析処理結果信号を生成する手段と、(b) 前記最初の検査工程以後の各検査工程毎に、受け取った前記検出欠陥データ信号の各々と、当該検査工程よりも一つ前の前回検査工程に関する前記欠陥データ解析処理結果信号とを比較して、当該検査工程に関する前記欠陥データ解析処理結果信号を生成する手段とを備え、前記欠陥データ解析処理結果信号は、消滅欠陥データ信号と非消滅欠陥データ信号とを有しており、前記消滅欠陥データ信号は、当該検査工程よりも前の何れかの前記検査工程では検出されたが、当該検査工程では検出されなかったために消滅したと判断されうる消滅欠陥に関するデータを与え、前記非消滅欠陥データ信号は、当該検査工程で検出されたために非消滅と判断されうる非消滅欠陥に関するデータを与える、インライン検査用検査データ解析処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-044054
洗浄能力評価方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-095085 Applicant：三菱電機株式会社
半導体ウエハ等の不良解析方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-085562 Applicant：株式会社日立製作所

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