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J-GLOBAL ID：200903079892155578

不均質触媒反応を行う装置および触媒を生成する方法

Inventor： シュスラー,マーチン ,  シュテファノヴスキー,トーマス ,  ツーア メゲーデ,デートレフ
Applicant, Patent owner： イクスツェルシス ゲーエムベーハー
Agent (1)： 田中 清 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000514728
Publication number (International publication number)：2001518390
Application date： Sep. 11, 1998
Publication date： Oct. 16, 2001
Summary：

【要約】例えば炭化水素またはアルコール、特にメタノールによる水素の生成のような、炭化水素および水を含む反応混合物が触媒上に供給される不均質触媒反応を行うために、少なくとも1種の触媒粉末を、成型体を形成する高度に圧縮された層に圧縮することにより、触媒を生成することを提案するものであり、この触媒層を通して圧力降下を伴って反応混合物を加圧することを可能とするものである。

Claim (excerpt)：

適当な反応混合物が触媒上に供給される不均質触媒反応を行う装置であって、触媒が、触媒材料の圧縮によって形成された少なくとも1つの薄い大面積の層(10、10’、21)であり、前記層を通して圧力降下(Δp)を伴って反応混合物を加圧し得ることを特徴とする装置。

IPC (5)：

B01J 23/72 ,  B01J 15/00 ,  B01J 19/24 ,  B01J 23/89 ,  C01B 3/32

FI (5)：

B01J 23/72 M ,  B01J 15/00 ,  B01J 19/24 A ,  B01J 23/89 M ,  C01B 3/32 A