試料分析装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997014923
Publication number (International publication number)：1998213479
Application date： Jan. 29, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】正確、確実かつ迅速に異物同定を行うこと。【解決手段】ウエハがプリアライメントされ、ウェハ番号が読取られた(2)後、レシピが読出される(3)。ウェハはXY-ステ-ジに搬送され(4)、アライメントされる(5)。ウェハマップが読出され、表示される(6)。オペレ-タはウェハマップ上の異物のうち、分析したい異物を指定し(7)、それが電子ビ-ム直下に来るようにステ-ジ移動される(8)。走査電子ビ-ムが指定異物上に照射され、SEM像が形成される。SEM像は対応する参照用SEM画像と比較され、指定異物の精密な位置決めが行われる(9)。指定異物上に電子ビ-ムを一点照射し、放出された特性X線を検出し、そのスペクトルは表示される(10)。そのスペクトルは参照用スペクトルと比較され、同一と推定される参照用スペクトルがリストアップされる(11)。

Claim (excerpt)：

試料を分析してそのスペクトルを生成する試料分析装置であって、参照用スペクトルをライブラリとして予め登録しておき、その登録された参照スペクトルを読出して、前記生成されたスペクトルと比較し、その結果その生成されたスペクトルと同一と推定される参照スペクトルを選択するように構成したことを特徴とする試料分析装置。

IPC (4)：

G01J 3/02 , G01J 3/28 , G01N 23/225 , G01N 27/62

FI (4)：

G01J 3/02 R , G01J 3/28 , G01N 23/225 , G01N 27/62 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭59-137854
異物分析装置及び半導体製造制御装置並びに異物分析方法及び半導体製造制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-258399 Applicant：三菱電機株式会社
特開昭59-182323

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