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J-GLOBAL ID：200903079905510135

気液接触装置

Inventor： 相澤 一徳 ,  竹村 浩一
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 根本 進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125228
Publication number (International publication number)：1994312126
Application date： Apr. 27, 1993
Publication date： Nov. 08, 1994
Summary：

【要約】【構成】 筒状の気液接触塔2と、この接触塔2の内部に上下方向軸回りの螺旋通路9を形成する螺旋部材8とを備える。その接触塔2の内部に供給された液体はその螺旋通路9に沿って流動可能である。その螺旋通路9に沿って流動する液体内に接触塔2に供給された気体を分散させることができるように、その螺旋部材8に気体通過孔8aが形成されている。【効果】 液体と気体の接触効率を向上でき、液体の流れをプラグフローとして液体の塔内滞留時間を正確に制御でき、構造が簡単で塔内に液体を充満させることのできるコンパクトな構造の気液接触装置を得ることができる。

Claim (excerpt)：

筒状の気液接触塔と、この接触塔の内部に上下方向軸回りの螺旋通路を形成する螺旋部材とを備え、その接触塔の内部に供給された液体がその螺旋通路に沿って流動可能とされ、その螺旋通路に沿って流動する液体内に接触塔に供給された気体を分散させることができるように、その螺旋部材に気体通過孔が形成されている気液接触装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭55-038162
  
• 特開平4-048919
  
• 特開昭50-124253