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J-GLOBAL ID：200903079906250765

ネガ型感放射線性樹脂組成物

Inventor： 川上 峰規 ,  楠本 士朗 ,  下川 努 ,  杉浦 誠 ,  原 宏道
Applicant, Patent owner： JSR株式会社
Agent (1)： 和気 操
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005234136
Publication number (International publication number)：2007047642
Application date： Aug. 12, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

【課題】感度、現像性、寸法忠実度等に優れる。【解決手段】繰り返し単位[1]を含有し、分子量が〜100,000である樹脂と、酸発生剤と、酸架橋剤とを含有する[R2、R3のいずれか一つがRfSO2NHCH2-基]【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式で表される繰り返し単位[1]を含有し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜100,000である樹脂(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、酸架橋剤(C)とを含有することを特徴とするネガ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/38

FI (4)：

G03F7/038 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/38

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA58Q ,  4J100BB11R ,  4J100BB18Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC28Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-320105   Applicant：富士通株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-258836   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• スルホンアミド構造を有する重合性エステル化合物、その重合体、レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-168601   Applicant：信越化学工業株式会社

Cited by examiner (1)

• フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-128938   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション